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英特爾調整2025年製程和封裝技術藍圖──拋棄節點命名、採用兩大開創性技術

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英特爾調整2025年製程和封裝技術藍圖──拋棄節點命名、採用兩大開創性技術

英特爾於 2021 年 7 月 26 日公佈了至 2025 年的製程技術和封裝技術藍圖。除了公佈其近十多年來,首個全新電晶體架構 RibbonFET 和業界首個全新的背部供電設計 PowerVia 之外,英特爾還重點介紹了迅速採用下一代 EUV 技術的計畫,即高數值孔徑(High-NA)EUV。


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